什么是光刻机·有什么用途

作者:资讯之家 时间:2021-09-22 23:58 TAG: 芯片制造 光刻机 光刻胶

光刻机,芯片制造,光刻胶

  在芯片制造过程中,光刻机(MaskAligner)是一种被称为掩模对准式曝光机。晶片制造过程非常复杂,但可以归纳成几大步骤:

  硅晶片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻>刻蚀>工艺集成等。

  其中光刻工艺是制程中最关键的一步,光刻技术决定了芯片的关键尺寸,在整个芯片制造过程中占总成本的35%左右。

  光刻(photolithography)工艺是将掩膜版(光刻版)上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶。第一个光刻胶处理装置是将光刻胶旋涂到晶圆表面,然后经过逐步重复曝光和显影处理,使所需的图形在晶片上形成所需的图形。

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  这一过程的难易性通常是以一个制程所需的通过掩膜数来表示的。按暴露方式,光刻可以分为接触式、接近式和投影式;根据光刻面数的不同,光刻面数有单面对准光刻和双面对准光刻光刻;根据光刻胶的类型,分为薄胶光刻和厚胶光刻。与之相应的,光刻机可按用途分为:芯片制造光刻机、封装光刻机、LED制造领域应用的投影仪。

  普通光刻机按操作简单分为三类,手动、半自动、全自动。

  手柄:指的是对准调节方式,通过手柄改变其X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度就不高了;

  半自动:指的是通过电动轴,可以根据CCD定位定位;

  自动化:指从上传底片上传,曝光时间和循环都由程序控制,自动光刻机主要满足工厂对处理量的需求。

  普通光刻工艺包括底膜处理、涂胶、前烘烤、对准曝光、显影、刻蚀、去胶光刻检验等,可根据实际情况调整工艺操作。

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